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    Eris E120A

    8英寸单片常压硅外延系统

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    Eris E120A 8英寸单片常压硅外延系统
    Eris E120A 8 Inch Single Wafer Atmospheric Pressure Silicon Epitaxy System
    Eris E120A主要用于5、6、8英寸硅外延工艺。该机台能够高度自动化运行工艺。系统主要由传输?、工艺腔室?、控制?榈茸槌。其中工艺?槭峭瓿晒柰庋庸ひ丈さ暮诵模饕尤认低场⑶皇蚁低澈托迪低,先进的红外控温系统可以实现温度的快速升降和稳定,从而保证了工艺的重复性和设备的稳定性,专业设计的气流场与温场保证了外延片良好的厚度均匀性、电阻率均匀性、零滑移线和低缺陷密度。专业的传输?榭梢栽诩嫒荻嘀侄嘀志г渤叽绲耐笔迪至己玫目帕?刂,工艺稳定性高。
    设备特点
    • 占地面积。僮骷虻
    • 五区气流场和内外区辅助掺杂设计,获得良好的工艺性能
    • 多片槽冷却位,有效提升WPH
    产品应用
    • 晶圆尺寸
      5、6、8英寸
    • 适用材料
    • 适用工艺
      N&P常压硅外延
    • 适用领域
      功率半导体、衬底材料、科研领域
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