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Esther E320A

8英寸单片常压硅外延系统

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Esther E320A 8英寸单片常压硅外延系统
Esther E320A 8 Inch Single Wafer Atmospheric Pressure Silicon Epitaxy System
Esther E320A主要用于5、6、8英寸硅外延工艺。该机台能够高度自动化运行工艺。系统主要由传输?、工艺腔室?、控制?榈茸槌。其中工艺?槭峭瓿晒柰庋庸ひ丈さ暮诵,主要包括加热系统、腔室系统和旋转升降系统,先进的红外控温系统可以实现温度的快速升降和稳定,从而保证了工艺的重复性和设备的稳定性,专业设计的气流场与温场保证了外延片良好的厚度均匀性、电阻率均匀性、零滑移线和低缺陷密度。专业的传输?榭梢栽诩嫒荻嘀志г渤叽绲耐笔迪至己玫目帕?刂,工艺稳定性高。
设备特点
  • 先进的红外加热控制技术和加热?樯杓,有效提高成膜质量
  • 专业的传输系统和工艺?樯杓疲杉嫒荻嘀止ひ沼猛
  • 友好的人机交互和安全性设计,保障系统稳定、安全、高效
  • 具有单腔和多腔两种机型,可满足不同客户需求
产品应用
  • 晶圆尺寸
    5、6、8英寸
  • 适用材料
  • 适用工艺
    N&P常压硅外延
  • 适用领域
    功率半导体、衬底材料、科研领域
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